在我国高功率激光系统的研制工作中，光隔离器所使用的大口径磁旋光玻璃一直是制约系统开发的瓶颈之一。目前,世界上掌握这一制造技术的仅有日本、德国和俄罗斯等少数几个发达国家,其中能制造口径在φ200mm磁旋光玻璃的技术始终被日本、俄罗斯所垄断。由于磁旋光玻璃制造技术难度大、工艺复杂,该技术一直被国外列重点限制出口的范围。我国开展磁旋玻璃的研究工作已有二十年,目前虽已能够制造普通的磁旋光玻璃,但在研在制大口径磁旋光玻璃的关键技术上终未能取得突破,且产品均匀性不高远远不能满足国家科研工作和大工程目对这一材料的需求。 　　我所瞬态光学与光电子学国家重点实验室年轻的研究人员邹快盛博士及其课题组经过10个月的艰苦探索和实验研究，终于在研制大口径磁旋光玻璃的关键技术上取得重大突破,成功研制出高光学均匀性φ300mm的大口径磁旋光玻璃各项性能指标均优于日本公司其光学均匀性Δn达到±1×10-6，达到了实际应用的技术要求。　 　　该技术的完成填补了国内空白，打破了国际垄断与封锁，对国家高技术的发展提供了关键技术支撑，具有重要的战略意义，在国际领域中具有一定的显示度。